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高真空金屬膜沉積系統(tǒng)

  • 制造廠商:Kurt J. Lesker Co.
  • 購置日期:暫無信息
  • 型號:PVD 75
  • 生產(chǎn)國別:美國
  • 儀器類別:工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備
  • 安放地址:上海市

跨區(qū)域科技政策:

  • 上海
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  • 杭州衢州溫州臺州舟山金華紹興湖州嘉興寧波麗水余姚
  • 合肥毫州六安宿州阜陽黃山淮北淮南蚌埠宣城池州滁州安慶銅陵蕪湖馬鞍山
  • 儀器詳情
  • 該設(shè)備單步工藝可連續(xù)蒸鍍3種金屬及氧化物材料,有DC及RF模式可選。利用電子束加熱蒸發(fā)材料,在基片表面制備高純薄膜??捎糜赑t、Au、Ti、Cr、Al、Ag、Ni、Ge、W等多種金屬鍍膜,也可用于SiO2、ITO等氧化物及金屬氧化物半導(dǎo)體材料的沉積,具有沉積材料致密性強(qiáng)、膜厚控制精度高的優(yōu)點(diǎn)。

  • 暫無信息

  • 暫無信息

  • 成膜均勻性:優(yōu)于±5%;電子槍電源功率:5Kw;樣品臺:兼容最大至150mm直徑基片及不規(guī)則碎片樣品夾具;坩堝:8個(gè),12cc;樣品轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速:最大20rpm;蒸發(fā)源與基片距離:約23英寸。

  • 電子與通信技術(shù)

  • 高真空金屬沉積

  • 暫無信息

  • 暫無信息

  • 968

  • 452

中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所

機(jī)構(gòu)介紹:

上??茖W(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所原名中國科學(xué)院上海冶金研究所,是中國科學(xué)院所屬以信息微系統(tǒng)技術(shù)的研究與開發(fā)為主的高技術(shù)研究所,主要研究領(lǐng)域包括微電子機(jī)械系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、無線信息網(wǎng)絡(luò)、射頻與微波模塊、光電子器件、生物芯片、新型電池技術(shù)等。該所以國家需求為導(dǎo)向,圍繞“電子科學(xué)與技術(shù)”、“信息與通信工程”兩大新的學(xué)科方向,利用本所在功能材料與器件研究方面的積累和微電子平臺工藝技術(shù)為支撐,以“小衛(wèi)星、微系統(tǒng)技術(shù)平臺”兩個(gè)重大項(xiàng)目為依托,以系統(tǒng)帶器件、器件帶材料、加強(qiáng)原始創(chuàng)新,加強(qiáng)關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與集成研究,開展集成微光機(jī)電系統(tǒng)、天地一體化通信技術(shù)與系統(tǒng),信息功能材料與器件、微型和新型能源技術(shù)與系統(tǒng)等研究活動。中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所。

資質(zhì)能力:

進(jìn)入機(jī)構(gòu)

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